我公司针对离子刻蚀设备的抄板圆满完成，此离子刻蚀设备具备以下特点：
1. 自动工艺配方表，灵活方便的手动调节。
2. 工艺配方可U盘导入、导出，保证数据安全。
3. 下游流量控制，确保气体组分及比例稳定。
4. 完善的安全控制，通过互锁及冗余控制，保证系统安全。
5. 所有运行参数可监控，并生成报表，以供追溯分析。
6. 整机采用无油部件，可应用于净化间。
7. 全自动控制解决方案，可实现一键到底式操控体验。
8. 自动控制与手动操作一体化设计，无缝衔接。
主要技术指标：
可加工尺寸 5英寸
基片台冷却 水冷+氦气背冷
可刻蚀材料 硅基材料及金属
腔室尺寸 φ225mm×H350mm
真空系统 620L/S分子泵+8L/S干泵
极限真空 5.0×10-4Pa
电源系统 13.56MHz、1000W射频电源，自动匹配、自动控制；13.56MHz、500W射频电源，自动匹配、自动控制
压力控制 MKS压力控制系统、下游流量控制
气路 6路流量控制器，全自动控制、全自动现实并记录流量参数
控制系统 一体化工业控制器
系统软件 ICP定制控制软件
报警及保护 对电极缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并保护
我公司抄板实力雄厚，如有需要请致电我公司商务中心洽谈业务。
